WuKong_top1
Writer
Một sự cố kỹ thuật liên quan đến máy quang khắc DUV của ASML (Hà Lan) đang thu hút sự chú ý của giới công nghệ. Theo thông tin từ nhiều nguồn quốc tế, một đơn vị vận hành tại Trung Quốc đã tiến hành tháo dỡ máy để kiểm tra cấu trúc bên trong nhưng quá trình lắp lại gặp trục trặc khiến thiết bị ngừng hoạt động. Cuối cùng, họ phải cầu cứu đội ngũ kỹ sư ASML để hỗ trợ kiểm tra và khôi phục hệ thống. Điều gì khiến cỗ máy này gần như “không thể” can thiệp thủ công?
Máy DUV của ASML vốn được xem là thiết bị tinh vi bậc nhất trong ngành sản xuất vi mạch. Một máy duy nhất có thể chứa hơn 100.000 linh kiện, được cung cấp bởi hàng loạt tập đoàn công nghệ đặc thù. Hệ quang học Carl Zeiss đạt độ chính xác cực cao, laser ArF phát tia 193 nm hoạt động trong môi trường ổn định tuyệt đối, còn hệ cơ khí phải duy trì sai số dưới 1 nanomet khi di chuyển wafer ở tốc độ rất cao. Mọi mô-đun đều được điều phối bằng phần mềm thời gian thực với hàng nghìn tham số luôn vận hành trong trạng thái cân bằng tinh vi.
Việc lắp ráp hoàn chỉnh một máy DUV thường kéo dài nhiều tháng, yêu cầu sự phối hợp của hàng trăm kỹ sư trong môi trường sạch. Cấu trúc mô-đun đan xen khiến thiết bị vận hành ổn định nhưng lại cực kỳ nhạy cảm với các tác động ngoại vi. Chỉ một sai lệch nhỏ trong căn chỉnh thấu kính hoặc nhiễm bụi nano cũng đủ làm hệ quang học mất cân bằng và gây ra chuỗi lỗi không thể tự khắc phục.
Sự cố tại Trung Quốc cho thấy máy quang khắc rất khó tháo rời. Nhiều thành phần cốt lõi như buồng giao thoa kế hay các mô-đun quang học được niêm kín và yêu cầu thiết bị đo chuyên dụng để hiệu chỉnh. Khi sai lệch vượt quá ngưỡng cho phép, even nhỏ hơn 10 nm, việc tái cân chỉnh đòi hỏi quy trình đặc thù chỉ nhà sản xuất mới có khả năng thực hiện.
Dù vậy, nhiều tổ chức tại châu Á vẫn đang tăng tốc nội địa hóa công nghệ quang khắc thay vì nhập khẩu với các máy 130 nm, 65 nm và 28 nm đã bước đầu xuất hiện. Một số nhóm nghiên cứu còn phát triển thành công nguồn sáng EUV plasma cho thấy bước tiến đáng kể trong lĩnh vực quang học công suất cao.
Máy DUV của ASML vốn được xem là thiết bị tinh vi bậc nhất trong ngành sản xuất vi mạch. Một máy duy nhất có thể chứa hơn 100.000 linh kiện, được cung cấp bởi hàng loạt tập đoàn công nghệ đặc thù. Hệ quang học Carl Zeiss đạt độ chính xác cực cao, laser ArF phát tia 193 nm hoạt động trong môi trường ổn định tuyệt đối, còn hệ cơ khí phải duy trì sai số dưới 1 nanomet khi di chuyển wafer ở tốc độ rất cao. Mọi mô-đun đều được điều phối bằng phần mềm thời gian thực với hàng nghìn tham số luôn vận hành trong trạng thái cân bằng tinh vi.
Việc lắp ráp hoàn chỉnh một máy DUV thường kéo dài nhiều tháng, yêu cầu sự phối hợp của hàng trăm kỹ sư trong môi trường sạch. Cấu trúc mô-đun đan xen khiến thiết bị vận hành ổn định nhưng lại cực kỳ nhạy cảm với các tác động ngoại vi. Chỉ một sai lệch nhỏ trong căn chỉnh thấu kính hoặc nhiễm bụi nano cũng đủ làm hệ quang học mất cân bằng và gây ra chuỗi lỗi không thể tự khắc phục.
Sự cố tại Trung Quốc cho thấy máy quang khắc rất khó tháo rời. Nhiều thành phần cốt lõi như buồng giao thoa kế hay các mô-đun quang học được niêm kín và yêu cầu thiết bị đo chuyên dụng để hiệu chỉnh. Khi sai lệch vượt quá ngưỡng cho phép, even nhỏ hơn 10 nm, việc tái cân chỉnh đòi hỏi quy trình đặc thù chỉ nhà sản xuất mới có khả năng thực hiện.
Dù vậy, nhiều tổ chức tại châu Á vẫn đang tăng tốc nội địa hóa công nghệ quang khắc thay vì nhập khẩu với các máy 130 nm, 65 nm và 28 nm đã bước đầu xuất hiện. Một số nhóm nghiên cứu còn phát triển thành công nguồn sáng EUV plasma cho thấy bước tiến đáng kể trong lĩnh vực quang học công suất cao.
Theo whitehat.vn
Được phối hợp thực hiện bởi các chuyên gia của Bkav,
cộng đồng An ninh mạng Việt Nam WhiteHat
và cộng đồng Khoa học công nghệ VnReview
