Bước tiến đột phá của Trung Quốc trong công nghệ quang khắc và chất cản quang bán dẫn

[Trường Sơn]

Các nhà nghiên cứu Trung Quốc đã đạt được một bước tiến lớn trong công nghệ quang khắc (lithography) và chất cản quang (photoresist), có thể cải thiện đáng kể hiệu suất sản xuất của các thiết bị bán dẫn.

Bằng cách sử dụng phương pháp hiển vi điện tử lạnh 3D (cryo-electron tomography – cryo-ET), các nhà nghiên cứu lần đầu tiên đã phân tích cấu trúc vi mô ba chiều, sự phân bố bề mặt và hành vi đan xen của các phân tử chất cản quang trong môi trường lỏng. Những phát hiện này đã giúp họ phát triển một giải pháp công nghiệp có thể giảm đáng kể các khuyết tật trong quá trình quang khắc.

Kết quả nghiên cứu đã được công bố trên tạp chí Nature Communications.